Máquina de gravação rotativa de cristal único
Máquina de gravação rotativa de cristal único
  1. Máquina de gravação rotativa de cristal único
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Máquina rotativa de wafer de cristal único para fábricas de semicondutores

Esta máquina rotativa de gravação de bolachas de cristal único foi concebida para aplicações de processos húmidos de semicondutores que requerem rotação controlada, gravação química uniforme e manuseamento estável de lotes. Suporta a preparação, limpeza e tratamento de superfícies ao nível da bolacha em fábricas, laboratórios e projectos de atualização de equipamento.

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This equipment is suitable for UBM, RDL, BGBM, and second- and third-generation semiconductor etching processes. A single chamber supports multiple processes, and the chemical recovery rate is high. The swing arm is programmable, and the magnetic levitation pump provides uniform liquid control. Separate acid and alkali chambers prevent cross-contamination. The integrated PTFE curved chamber resists backsplashing, and the entire unit is acid and alkali resistant, stable, and durable.

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