¿Desea ponerse en contacto con equipos de fabricantes de semiconductores para equipos de proceso húmedo? Meraif apoya a los compradores del sudeste asiático con soluciones para obleas de silicio, obleas de CI, envasado avanzado, sustratos de CI y SMT, respaldadas por tecnología de boquillas patentada, limpieza por pulverización de presión negativa al vacío y experiencia en fluidos supercríticos para la limpieza de semiconductores de alta precisión.
Esta máquina rotativa de grabado de obleas monocristalinas está diseñada para aplicaciones de proceso húmedo de semiconductores que requieren una rotación controlada, un grabado químico uniforme y una manipulación estable de los lotes. Permite la preparación, limpieza y tratamiento de superficies de obleas en fábricas, laboratorios y proyectos de actualización de equipos.
This equipment is suitable for UBM, RDL, BGBM, and second- and third-generation semiconductor etching processes. A single chamber supports multiple processes, and the chemical recovery rate is high. The swing arm is programmable, and the magnetic levitation pump provides uniform liquid control. Separate acid and alkali chambers prevent cross-contamination. The integrated PTFE curved chamber resists backsplashing, and the entire unit is acid and alkali resistant, stable, and durable.
