Máquina de grabado rotativo monocristalino
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Grabadora rotativa de obleas monocristalinas para fábricas de semiconductores

Esta máquina rotativa de grabado de obleas monocristalinas está diseñada para aplicaciones de proceso húmedo de semiconductores que requieren una rotación controlada, un grabado químico uniforme y una manipulación estable de los lotes. Permite la preparación, limpieza y tratamiento de superficies de obleas en fábricas, laboratorios y proyectos de actualización de equipos.

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This equipment is suitable for UBM, RDL, BGBM, and second- and third-generation semiconductor etching processes. A single chamber supports multiple processes, and the chemical recovery rate is high. The swing arm is programmable, and the magnetic levitation pump provides uniform liquid control. Separate acid and alkali chambers prevent cross-contamination. The integrated PTFE curved chamber resists backsplashing, and the entire unit is acid and alkali resistant, stable, and durable.

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