Horizontale TFT-Glasreinigungsmaschine für Flachbildschirm- und Halbleiterproduktionslinien. Sie unterstützt den kontinuierlichen Paneeltransfer, die Nassreinigung, das Spülen und Trocknen zur Entfernung von Partikeln, Rückständen und Verunreinigungen vor der Beschichtung, Verklebung, Inspektion oder Montage in Reinraumumgebungen.
The single-wafer wet etching spin processor is suitable for etching metal layers such as UBM and RDL, as well as second- and third-generation 2.5 and 3.5 generation etching. The chamber allows for multi-chemical etching, with precise and controllable swing arm and spraying. Acid and alkali are recycled separately without pollution. The integrated PTFE chamber prevents backsplashing, the entire unit is corrosion-resistant, and the interface is simple, meeting the needs of mass production and engineering.
