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Suchen Sie Kontakt zu Teams von Halbleiterherstellern für Nassprozessanlagen? Meraif unterstützt Käufer in Südostasien mit Lösungen für Siliziumwafer, IC-Wafer, fortschrittliche Verpackungen, IC-Substrate und SMT - unterstützt durch patentierte Düsentechnologie, Vakuum-Unterdruck-Sprühreinigung und überkritische Flüssigkeitsexpertise für hochpräzise Halbleiterreinigung.

Meraif
Begonnen im Jahr 2006
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Kontakt-Meraif Halbleiter

Meraif ist ein integrierter Gerätehersteller in China, der Nassprozessausrüstungslösungen für die Halbleiter- und Elektronikfertigung anbietet. Käufer entscheiden sich für Meraif aufgrund der Gründung im Jahr 2006, der drei Fabriken und mehreren Niederlassungen, der patentierten Düsenreinigungstechnologie und der umweltorientierten Vakuum-Unterdruck- und überkritischen Flüssigkeitsverfahren.

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Unsere Vertriebs- und Technikteams stehen rund um die Uhr zur Verfügung, um Dienstleistungen in Bezug auf Preisgestaltung, Technik, Materialien, Produktentwicklung und alle anderen Fragen im Zusammenhang mit Halbleitern anzubieten.
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Unsere Büros

Hauptquartier
Malaysia Adresse: 25, Lorong Tambun Indah 11, 14100 Simpang Ampat, Penang
Telefon: +86 153 1886 3639
E-Mail: [email protected]
Fertigungszentrum
Shenzhen Adresse: Raum 1504, Einheit 3, Gebäude 1, Tianjian Yuewanfu, Nanshan Subdistrict, Nanshan District, Shenzhen, Guangdong, China
Telefon: +86 534 556 2009
Fax: +86 534 501 5868
E-Mail: [email protected]
Geschäftszeiten
Montag - Freitag: 08:00 - 22:00
Samstag - Sonntag: 09:00- 20:00

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Häufig gestellte Fragen

Teilen Sie uns Ihre Prozessstufe, Produktkategorie, Wafer- oder Gehäusetyp, Verunreinigungs- oder Reinigungsproblem, angestrebten Durchsatz und Projektzeitplan mit. Bei Anfragen zum Advanced Packaging ist es außerdem hilfreich, Gap-Größe, Die-Größe, Chip-Pitch und alle DRAM-, HBM-, MEMS- oder CoWoS-bezogenen Anforderungen anzugeben.
Ja. Diese Seite dient dazu, Interesse in einem frühen Stadium in ein technisches Gespräch umzuwandeln. Käufer können Meraif über das RFQ-Formular oder per E-Mail kontaktieren, um die Eignung des Prozesses, den Umfang der Anwendung und die Anforderungen an die Vorführung zu besprechen und zu klären, ob die patentierte Düsen-, Vakuumreinigungs- oder SCF-Technologie der richtige Weg ist.
Geben Sie die Abmessungen des Wafers, die Gehäusefamilie, das Substrat oder den Materialtyp, die Kontaminationsquelle, die Versorgungsbedingungen und die Zielproduktionsregion an. Wenn Sie eine Vakuumreinigungsplattform evaluieren, sind folgende Angaben nützlich: UPH-Ziele, Korbgröße, Stromversorgung, Absaugung, PCW- und CDA-Bedingungen.
Ja. Aufgrund der Positionierung von Meraif und der regionalen Abdeckung eignet sich diese Seite für Anfragen zum technischen Support für Halbleiter aus Malaysia, für die Koordination der OEM-Beschaffung und für grenzüberschreitende Diskussionen über Nassprozessanlagen in ganz Südostasien.
Meraif ist ein Anbieter von umfassenden Lösungen für Nassprozessanlagen für die Elektronikindustrie. Unsere Lösungen umfassen Siliziumwafer, IC-Wafer, fortschrittliches Packaging, IC-Substrate und SMT-Verfahren.
Ja. Meraif bietet Nassprozesslösungen für fortschrittliche Verpackungsanwendungen und hilft seinen Kunden bei der Bewältigung anspruchsvoller Reinigungsaufgaben in der Halbleiterfertigung der nächsten Generation.
Kunden entscheiden sich für Meraif, weil wir Branchenerfahrung, Fachwissen über Nassverfahren, eigene Reinigungstechnologie und umfassende regionale Unterstützung miteinander verbinden. Unser Ziel ist es, unsere Kunden dabei zu unterstützen, eine höhere Effizienz, bessere Reinigungsergebnisse und eine zuverlässigere Prozessleistung zu erzielen.
Meraif unterstützt Kunden in den Bereichen Halbleiterfertigung, Advanced Packaging, IC-Substratverarbeitung und SMT-Produktion. Unsere Lösungen eignen sich für Anwendungen in der Automobilelektronik, Industrieelektronik, Unterhaltungselektronik und anderen hochpräzisen Fertigungsbereichen.
Meraif zeichnet sich durch sein starkes technisches Fundament, sein spezialisiertes Fachwissen im Bereich Nassverfahren und seine patentierten Reinigungstechnologien aus. Unsere patentierte Düsentechnologie, das Vakuum-Unterdruck-Sprühverfahren und die Technologie mit überkritischen Flüssigkeiten wurden entwickelt, um die Reinigungseffizienz zu verbessern und gleichzeitig empfindliche Halbleitermaterialien zu schützen.
Unsere patentierte Düsentechnologie ist einer der Hauptvorteile von KED Technology. Sie wurde speziell für Halbleiterreinigungsanwendungen entwickelt und bietet im Vergleich zu herkömmlichen Düsen eine höhere Reinigungseffizienz und eine bessere Partikelentfernung, während sie gleichzeitig dazu beiträgt, Waferschäden zu vermeiden.
Meraif setzt präzise entwickelte Reinigungsmethoden ein, um feine Partikel und Verunreinigungen wirksam zu entfernen und gleichzeitig das Risiko einer mechanischen oder chemischen Beschädigung der Wafer-Oberflächen zu minimieren. Dies ist besonders wichtig bei fortschrittlichen Halbleiter- und Verpackungsprozessen.
Die Vakuum-Unterdruck-Sprühtechnik ist ein Reinigungsverfahren, das in einer Vakuumumgebung durchgeführt wird. Es ermöglicht eine effiziente Sprühreinigung und unterstützt gleichzeitig die Rückgewinnung durch Destillation, wodurch der Prozess umweltfreundlicher wird und weniger Wasser und Abwasser anfällt.