Cercate di contattare i team di produttori di semiconduttori per le attrezzature di processo a umido? Meraif supporta gli acquirenti del sud-est asiatico con soluzioni per wafer di silicio, wafer IC, packaging avanzato, substrati IC e SMT, grazie alla tecnologia brevettata degli ugelli, alla pulizia a spruzzo con vuoto a pressione negativa e all'esperienza nei fluidi supercritici per la pulizia di alta precisione dei semiconduttori.
Macchina per la pulizia orizzontale del vetro TFT per linee di produzione di schermi piatti e semiconduttori. Supporta il trasferimento continuo dei pannelli, la pulizia a umido, il risciacquo e l'asciugatura per rimuovere particelle, residui e contaminanti prima del rivestimento, dell'incollaggio, dell'ispezione o dell'assemblaggio in ambienti di camera bianca.
The single-wafer wet etching spin processor is suitable for etching metal layers such as UBM and RDL, as well as second- and third-generation 2.5 and 3.5 generation etching. The chamber allows for multi-chemical etching, with precise and controllable swing arm and spraying. Acid and alkali are recycled separately without pollution. The integrated PTFE chamber prevents backsplashing, the entire unit is corrosion-resistant, and the interface is simple, meeting the needs of mass production and engineering.
