습식 공정 장비에 대해 반도체 제조업체 팀에 문의하고 싶으신가요? Meraif는 특허받은 노즐 기술, 진공 음압 스프레이 세척, 고정밀 반도체 세척을 위한 초임계 유체 전문성을 바탕으로 실리콘 웨이퍼, IC 웨이퍼, 첨단 패키징, IC 기판 및 SMT용 솔루션을 동남아시아 바이어에게 제공합니다.
Meraif
2006년에 시작
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1504호, 3호실, 1동, 천지안 위완푸, 난산구 난산 서브지구, 난산구, 선전, 광둥성, 중국
FPD 생산용 TFT 유리 수평 세척기
평판 디스플레이 및 반도체 생산 라인용 TFT 유리 수평 세척기. 클린룸 환경에서 코팅, 접착, 검사 또는 조립 전에 입자, 잔류물 및 오염 물질을 제거하기 위한 연속 패널 이송, 습식 세척, 헹굼 및 건조 공정을 지원합니다.
The single-wafer wet etching spin processor is suitable for etching metal layers such as UBM and RDL, as well as second- and third-generation 2.5 and 3.5 generation etching. The chamber allows for multi-chemical etching, with precise and controllable swing arm and spraying. Acid and alkali are recycled separately without pollution. The integrated PTFE chamber prevents backsplashing, the entire unit is corrosion-resistant, and the interface is simple, meeting the needs of mass production and engineering.
