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습식 공정 장비에 대해 반도체 제조업체 팀에 문의하고 싶으신가요? Meraif는 특허받은 노즐 기술, 진공 음압 스프레이 세척, 고정밀 반도체 세척을 위한 초임계 유체 전문성을 바탕으로 실리콘 웨이퍼, IC 웨이퍼, 첨단 패키징, IC 기판 및 SMT용 솔루션을 동남아시아 바이어에게 제공합니다.

Meraif
2006년에 시작
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반도체 팹용 싱글 웨이퍼 마스크 클리닝 머신

A compact semiconductor cleaning machine designed for single wafers, photomasks, and precision carriers. The enclosed automated system supports stable handling, contamination removal, and process control for fabs, packaging lines, R&D labs, and scarce equipment sourcing projects worldwide. OEM ready

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사랑을 나누세요

This equipment is suitable for cleaning 6”, 7”, and 9” photomasks, equipped with a multi-stage precision filtration system, meeting Class 10/100 cleanliness requirements. It employs ion air blowing technology to achieve 360° high-precision cleaning, supports mainstream communication protocols and automated integration, and complies with SEMI S2 and CE semiconductor standards.