Ищете контакты с командами производителей полупроводников для оборудования для влажных процессов? Компания Meraif предлагает покупателям из Юго-Восточной Азии решения для кремниевых пластин, пластин ИС, современной упаковки, подложек ИС и SMT - с использованием запатентованной технологии форсунок, вакуумной очистки распылением под отрицательным давлением и сверхкритических жидкостей для высокоточной очистки полупроводников.
A compact semiconductor cleaning machine designed for single wafers, photomasks, and precision carriers. The enclosed automated system supports stable handling, contamination removal, and process control for fabs, packaging lines, R&D labs, and scarce equipment sourcing projects worldwide. OEM ready
This equipment is suitable for cleaning 6”, 7”, and 9” photomasks, equipped with a multi-stage precision filtration system, meeting Class 10/100 cleanliness requirements. It employs ion air blowing technology to achieve 360° high-precision cleaning, supports mainstream communication protocols and automated integration, and complies with SEMI S2 and CE semiconductor standards.
