ウェットプロセス装置の半導体メーカーチームとのコンタクトをお探しですか?メライフは、特許取得済みのノズル技術、真空負圧スプレー洗浄、高精度半導体洗浄のための超臨界流体の専門知識に裏打ちされた、シリコンウェーハ、ICウェーハ、高度なパッケージング、IC基板、SMTのためのソリューションで東南アジアのバイヤーをサポートしています。.
メライフ
2006年開始
ウェットプロセス装置の半導体メーカーチームとのコンタクトをお探しですか?メライフは、特許取得済みのノズル技術、真空負圧スプレー洗浄、高精度半導体洗浄のための超臨界流体の専門知識に裏打ちされた、シリコンウェーハ、ICウェーハ、高度なパッケージング、IC基板、SMTのためのソリューションで東南アジアのバイヤーをサポートしています。.




A compact semiconductor cleaning machine designed for single wafers, photomasks, and precision carriers. The enclosed automated system supports stable handling, contamination removal, and process control for fabs, packaging lines, R&D labs, and scarce equipment sourcing projects worldwide. OEM ready
This equipment is suitable for cleaning 6”, 7”, and 9” photomasks, equipped with a multi-stage precision filtration system, meeting Class 10/100 cleanliness requirements. It employs ion air blowing technology to achieve 360° high-precision cleaning, supports mainstream communication protocols and automated integration, and complies with SEMI S2 and CE semiconductor standards.