Máquina semiautomática de limpieza FOUP
Máquina semiautomática de limpieza FOUP
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Limpiador FOUP semiautomático NEPTECH para fábrica de semiconductores

La máquina semiautomática de limpieza FOUP de NEPTECH está diseñada para fábricas que requieren una limpieza, aclarado y secado fiables de los soportes de obleas. La estructura de acero inoxidable, la puerta de visualización y el panel del operador permiten flujos de trabajo controlados para el mantenimiento de FOUP, FOSB y reticle pod, además de soporte de abastecimiento global hoy mismo.

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The FOUP cleaning machine is an automatic centrifugal cleaning device, compatible with various wafer cassettes such as SMIF, FOUP, FOSB, and Cassette. It removes particles and metal ions through 360° rotation and high-pressure DI water rinsing, followed by centrifugal hot air drying, resulting in excellent cleaning and drying performance. It supports SECS/GEM200/300 and complies with SEMI S2 and CE semiconductor standards.

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