Ищете контакты с командами производителей полупроводников для оборудования для влажных процессов? Компания Meraif предлагает покупателям из Юго-Восточной Азии решения для кремниевых пластин, пластин ИС, современной упаковки, подложек ИС и SMT - с использованием запатентованной технологии форсунок, вакуумной очистки распылением под отрицательным давлением и сверхкритических жидкостей для высокоточной очистки полупроводников.
Горизонтальная машина для очистки TFT-стекла для линий по производству плоских дисплеев и полупроводников. Она поддерживает процессы непрерывного переноса панелей, влажной очистки, ополаскивания и сушки для удаления частиц, остатков и загрязнений перед нанесением покрытия, склеиванием, проверкой или сборкой в условиях чистых помещений.
The single-wafer wet etching spin processor is suitable for etching metal layers such as UBM and RDL, as well as second- and third-generation 2.5 and 3.5 generation etching. The chamber allows for multi-chemical etching, with precise and controllable swing arm and spraying. Acid and alkali are recycled separately without pollution. The integrated PTFE chamber prevents backsplashing, the entire unit is corrosion-resistant, and the interface is simple, meeting the needs of mass production and engineering.
