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2006年開始
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全自動FOUP洗浄機
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半導体工場用全自動FOUP洗浄機

半導体工場やウェハーハンドリングライン向けに設計された全自動FOUP洗浄装置です。効率的なキャリア洗浄、リンス、乾燥をサポートし、パーティクル、化学残留物、イオン汚染を除去し、FOUPの清浄度、プロセスの安定性、生産歩留まりを総合的に向上させます。.

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この全自動FOUP洗浄装置は、12インチFOUP/FOSBパーティクルと金属イオンの洗浄に特化して設計されており、半導体産業に適しています。クラス10/100の清浄度基準を満たす多段精密ろ過を採用し、死角のない360°スプレー洗浄を実現し、真空乾燥システムを装備しています。主流の通信とオートメーション統合をサポートし、SEMI S2とCE規格に準拠しています。.

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