Machine de nettoyage horizontale TFTGlass
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Machine de nettoyage horizontal de verre TFT pour la production de FPD

Machine de nettoyage horizontal de verre TFT pour les lignes de production d'écrans plats et de semi-conducteurs. Elle permet le transfert continu des panneaux, le nettoyage humide, le rinçage et le séchage afin d'éliminer les particules, les résidus et les contaminants avant le revêtement, le collage, l'inspection ou l'assemblage dans des environnements de salle blanche.

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The single-wafer wet etching spin processor is suitable for etching metal layers such as UBM and RDL, as well as second- and third-generation 2.5 and 3.5 generation etching. The chamber allows for multi-chemical etching, with precise and controllable swing arm and spraying. Acid and alkali are recycled separately without pollution. The integrated PTFE chamber prevents backsplashing, the entire unit is corrosion-resistant, and the interface is simple, meeting the needs of mass production and engineering.

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