Machine à graver rotative monocristalline
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Gravure rotative de plaquettes monocristallines pour les usines de semi-conducteurs

Cette machine rotative de gravure de plaquettes monocristallines est conçue pour les applications de traitement humide des semi-conducteurs nécessitant une rotation contrôlée, une gravure chimique uniforme et une manipulation stable des lots. Elle permet la préparation, le nettoyage et le traitement de surface des wafers dans les fabs, les laboratoires et les projets de mise à niveau des équipements.

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This equipment is suitable for UBM, RDL, BGBM, and second- and third-generation semiconductor etching processes. A single chamber supports multiple processes, and the chemical recovery rate is high. The swing arm is programmable, and the magnetic levitation pump provides uniform liquid control. Separate acid and alkali chambers prevent cross-contamination. The integrated PTFE curved chamber resists backsplashing, and the entire unit is acid and alkali resistant, stable, and durable.

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