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This single crystal wafer coating and spinning machine is built for semiconductor wafer surface processing, uniform coating, spin drying, and fab automation. The enclosed system supports stable wafer handling, touch-screen operation, and global sourcing for spare parts, accessories, and upgrades.
Suitable for 6/8/12-inch photoresist spin coating, uniform coating, and curing; can handle AP/AT coating and also handle cleaning and baking; equipped with precision filtration, 5000RPM spin coating, and multi-point uniform heating to ensure process uniformity; supports mainstream communications, complies with semiconductor standards, and can automatically/manually load and unload materials.
