습식 공정 장비에 대해 반도체 제조업체 팀에 문의하고 싶으신가요? Meraif는 특허받은 노즐 기술, 진공 음압 스프레이 세척, 고정밀 반도체 세척을 위한 초임계 유체 전문성을 바탕으로 실리콘 웨이퍼, IC 웨이퍼, 첨단 패키징, IC 기판 및 SMT용 솔루션을 동남아시아 바이어에게 제공합니다.
Meraif
2006년에 시작
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1504호, 3호실, 1동, 천지안 위완푸, 난산구 난산 서브지구, 난산구, 선전, 광둥성, 중국
반도체 팹용 넵텍 반자동 FOUP 클리너
The NEPTECH semi-automatic FOUP cleaning machine is designed for fabs requiring reliable wafer carrier cleaning, rinsing and drying. Stainless-steel structure, viewing door and operator panel support controlled workflows for FOUP, FOSB and reticle pod maintenance, plus global sourcing support today.
The FOUP cleaning machine is an automatic centrifugal cleaning device, compatible with various wafer cassettes such as SMIF, FOUP, FOSB, and Cassette. It removes particles and metal ions through 360° rotation and high-pressure DI water rinsing, followed by centrifugal hot air drying, resulting in excellent cleaning and drying performance. It supports SECS/GEM200/300 and complies with SEMI S2 and CE semiconductor standards.
