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Meraif
Début en 2006
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Système d'enlèvement de photorésistances et de décapage de métaux
Système d'enlèvement de photorésistances et de décapage de métaux
  1. Système d'enlèvement de photorésistances et de décapage de métaux
  2. Système d'enlèvement de photorésistances et de décapage de métaux

Système de nettoyage de plaquettes de silicium par enlèvement de résine photosensible et décapage de métal

Photoresist removal and metal stripping wafer system for semiconductor wet processing, designed for cleaning, stripping and surface preparation in fabs. We support global sourcing of scarce equipment, parts, accessories and customized automation solutions for wafer manufacturing lines worldwide.

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This equipment supports 6/8/12-inch wafers, combining the advantages of batch and single-wafer processes. It integrates solvent immersion, high-pressure resist removal, and two-fluid cleaning. The immersion tank is equipped with megasonic technology and can be flexibly configured. Featuring two-fluid and high-pressure jet cleaning, it delivers excellent resist and particle removal performance. Its modular design allows for expansion, and its stable and consistent program control ensures high wafer cleanliness.

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