نظام إزالة مقاوم للضوء ونظام تجريد الرقاقة الضوئية ونزع المعادن للمعالجة الرطبة لأشباه الموصلات، مصمم للتنظيف والتجريد وإعداد السطح في المصانع. نحن ندعم التوريد العالمي للمعدات النادرة وقطع الغيار والملحقات وحلول الأتمتة المخصصة لخطوط تصنيع الرقائق في جميع أنحاء العالم.
This equipment supports 6/8/12-inch wafers, combining the advantages of batch and single-wafer processes. It integrates solvent immersion, high-pressure resist removal, and two-fluid cleaning. The immersion tank is equipped with megasonic technology and can be flexibly configured. Featuring two-fluid and high-pressure jet cleaning, it delivers excellent resist and particle removal performance. Its modular design allows for expansion, and its stable and consistent program control ensures high wafer cleanliness.
